一种扩散膜、背光模组及其制备方法与流程

文档序号:11215172
一种扩散膜、背光模组及其制备方法与流程

本发明涉及光学膜片组件,具体涉及扩散膜、背光模组及制造方法。



背景技术:

目前防止蓝光的方案包括软件技术、LED灯源调整、贴膜技术、防蓝光眼镜技术、用眼时间控制、食疗。软件技术主要通过降低屏幕亮度减少蓝光,虽然可以明显的减少蓝光,但是以牺牲屏幕亮度为代价的。LED灯珠调整技术,主要通过改善灯珠中荧光粉配方,达到减少蓝光的目的,目前该技术在研究中。贴膜技术采用蓝光吸收剂涂布在膜片上,蓝光吸收剂吸收掉蓝光,从而达到目的,目前的主要问题是贴膜具有反光性,在强光下,屏幕发黄。防蓝光眼镜,通过在镜片上镀一层蓝光吸收剂,从而达到目的,局限性在于并不是所有人都戴眼镜。目前LCD中扩散膜的作用是将灯源发出的点光源,通过扩散剂,变为面光源,扩散膜对蓝光没有任何截止作用。



技术实现要素:

本发明的目的一方面提供一种高亮度抗蓝光扩散膜,解决用于截止蓝光目的,同时能保证高亮度、白平衡。

本发明的另一个目的是提供一种背光模组。

本发明的另一个目的是提供一种扩散膜的制备方法。

为实现上述目的,本发明的技术方案为:

一种扩散膜,包括正面涂层、背面涂层和基材,其特征在于,所述背面涂

包含黄光吸收剂和荧光粉。

进一步地,所述正面涂层包括扩散剂、树脂、固化剂、添加剂,所述树脂包含改性丙烯酸酯和改性聚氨酯。

进一步地,所述背面涂层还包括扩散剂、树脂、固化剂、添加剂,所述树脂包含改性丙烯酸酯和改性聚氨酯。

进一步地,所述黄光吸收剂选自金属配位化合物、单偶氮类染料、双偶氮类染料、含有杂原子的共轭多环有机物中的一种或者多种。

进一步地,所述荧光粉选自稀土石榴石系、硅酸盐系、含氮化合物系、硫化物系中的一种或者多种。

进一步地,所述基材选自聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚丙烯(PP)、三醋酸纤维薄膜(TAC)。

进一步地,所述的背涂涂层黄光吸收剂占涂布液的比例为0.1-10%,荧光粉占涂布液的比例为0.1-10%。

进一步地,所述扩散剂材料选自聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA),聚甲基丙烯酸正丁酯(PBMA),聚苯乙烯(PS),尼龙(Nylon),聚氨酯(PU),硅(silicon),密胺类中的一种或几种。

一种背光模组,包含所述的扩散膜。

一种包含上述扩散膜的制造方法,包含如下步骤:

S1,所述正面涂层的制备:采用凹版辊涂布的方式,将含有扩散剂、树脂、固化剂、添加剂的混合物涂布于基材(2)一表面,采用热固化方式固化;

S2,所述背面涂层的制备:采用凹版辊涂布的方式,将含有扩散剂、树脂、黄光吸收剂、荧光粉、引发剂、添加剂的混合物涂布于基材(2)另一表面,采用UV固化方式固化。

本文所述扩散膜,LED产生的蓝光经过荧光粉吸收,转变为黄光,为了保证白平衡,通过加入黄蓝光吸收物质吸收产生的黄光,从而达到滤除蓝光,同时保证辉度以及白平衡的目的。

附图说明:

下面结合结构示意图1及实施例对本发明进一步说明。

图1示出了本发明提供的一种扩散膜的结构示意图。

具体实施方式:

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。

正如背景技术部分所描述的,现有技术中虽然可以明显的减少蓝光,但是以牺牲屏幕亮度为代价的。

为了解决这一问题,本发明提供了一种扩散膜,包括正面涂层、背面涂层和基材,其特征在于,所述背面涂包含黄光吸收剂和荧光粉。

本发明提供的上述扩散膜中,LED产生的蓝光经过荧光粉吸收,转变为黄光,为了保证白平衡,通过加入黄蓝光吸收物质吸收产生的黄光,从而达到滤除蓝光,同时保证辉度以及白平衡的目的。

以下通过实施例进一步说明本发明的有益效果:

正面涂层由下列组分组成:

乙酸乙酯、乙酸丁酯、改性丙烯酸树脂、扩散剂(5μm PMMA粒子:12μm PMMA粒子=2:1)、添加剂、固化剂。

所述背面涂层由下列组分组成:

乙酸乙酯、改性丙烯酸树脂、扩散剂(5μm,nylon)、黄光吸收剂、荧光粉、添加剂、引发剂。

采用188um的PET作为基材,正面涂层采用凹版辊涂布方式,以30m/min的速度经过烘箱干燥溶剂,热固化后,收卷。

背面涂布采用上一步骤的半成品,采用凹版辊涂布方式,以35m/min速度经过烘箱干燥溶剂,以大于300mJ的能量进行UV固化。

具体实施例中各组分及含量请参考表1。

表1

成品在60℃熟化室进行熟化,熟化24h后,进行测试,测试结果请参考表2。

表2

由实施例1-7可知黄光吸收剂和荧光粉选用1:100~100:1的配比能有效滤除蓝光的同时保证辉度以及白平衡,优选为1:3~1:10;更优为:3:20。

以上所述仅为发明的较佳实施例,并不限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。企图据以对本发明作任何形式上之限制,是以,凡有在相同之发明精神下所作有关本发明之任何修饰或变更,皆仍应包括在本发明意图保护之范畴。

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